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光刻机作为芯片产业的核心装备，有人称它为“人类最精密复杂的机器”。同时，光刻机也被称为半导体工业皇冠上的明珠。光刻的主要作用是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上，是芯片制造的核心环节。光刻工艺定义了半导体器件的尺寸，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程和性能水平。

(资料图片)

业内消息传出，2021年3月初，中芯国际与荷兰光刻机公司阿斯麦（简称：ASML）签下大单，订购12亿美元光刻机。近年来，我国虽然在科技研发上取得了多项重大进步，但在芯片研发和制造领域却亟待突破，特别是在新冠疫情之后，全球新一轮的“芯片荒”来袭造成了产业链对于芯片供不应求的问题，我国想要推进独立自主的芯片研发，光刻机的生产制造就显得尤为重要。

一、产业链

从产业链来看，光刻机产业链主要包括上游设备及材料、中游光刻机生产及下游光刻机应用三大环节。

1.主要组件

光刻机生产制造的技术要求极高，ASML一台光刻机包含了10万个零部件，需要40个标准集装箱才能装下，涉及到上游5000多家供应商，比如德国的光学设备与超精密仪器，美国的计量设备与光源等。一台光刻机的主要部件包含测量台与曝光台、激光器、光束矫正器、能量控制器等11个模块。

2.光源

高端光刻机含有上万个零部件，而光学镜片则是核心部件之一，高数值孔径的镜头决定了光刻机的分辨率以及套值误差能力；光源则是高端光刻机另一核心部件，光源波长决定了光刻机的工艺能力。光刻机需要体积小、功率高而稳定的光源。

随着光源、曝光方式不断改进，光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。目前行业内使用最多的是第四代浸入式光刻机，最高制程可达7nm，在7nm之后芯片厂商必须使用最顶级的EUV光刻机。EUV光刻机主要技术优势如下：更高的光刻分辨率；生产效率高，光刻工艺简单。但同时EUV光刻机也存在着许多问题：耗能巨大，能量利用率低；光学系统设计与制造复杂；光罩掩模版表面缺陷。

对此，本人以中国国内第一证券大数据数据资料库信息做如下光刻机组件分析：

首先关注光刻机爆光系统的国科精密；

其次关注光刻机物镜系统的奥普光电、国望光学；

三是关注光刻机光源部件的福晶科技、科益虹源；

四是关注光刻机光模掩板方面的华润微、菲利化；

五是关注光刻机沉没式系统的启尔机电；

六是关系光刻机双工作台的华卓精科；‘

六是关注光刻机用光刻胶方面的PCB光刻胶如容大感光、飞凯材料、力拓达、东方材料； LCD光刻胶方面永太科技、雅克科技、鼎材科技、北旭新材、上海新阳、晶瑞股份、北京科华、中电彩虹、北旭电子；LED光刻胶方面晶瑞股份、容大感光、北京科化；

七是光刻机气体的凯美特气、华特气体；

八是光刻机光罩方面的清益光电、菲利化；

九是光刻机的涂胶显影设备的芯源微

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